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테스, 3D 낸드플래시 투자 관련 수혜 지속

Atomseoki 2016. 7. 21. 08:35
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테스(095610)에 대해 3D 낸드플래시 투자 관련 수혜가 내년까지 이어질 전망이다.


3D 낸드 신규 투자 증가가 내년에도 지속될 것으로 예상되는 가운데 3D 낸드 공급 장비 다변화로 추가적인 실적 개선이 기대된다. 내년은 올해와 달리 2D에서 3D 낸드 전환투자가 아니라 신규 증설 투자가 대부분이기 때문에 같은 케파(Capacity) 기준으로 받는 장비 투자 금액이 더 크다.

SK하이닉스의 3D 낸드 투자가 하반기부터 본격적으로 시작된다는 점도 긍정적기존에 공급하는 장비 종류가 3가지로 더 많기 때문이다. D램 20nm 전환 투자도 올해에 이어 내년까지 지속될 전망다.